『TECH+』に記事掲載
『TECH+』 "成蹊大学らが世界最高の超伝導臨界電流密度を有する薄膜線材を創製!" に三浦正志教授の研究内容の紹介記事が掲載
記事はこちら:(外部リンク)
https://news.mynavi.jp/techplus/article/kinmirai-technology-kenbunroku-228/
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『TECH+』 "成蹊大学らが世界最高の超伝導臨界電流密度を有する薄膜線材を創製!" に三浦正志教授の研究内容の紹介記事が掲載
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